半导体设备涂胶显影机

半导体设备涂胶显影机是一种将不同工艺制程的机台整合在一起，作为一个整体的制程装备，该设备由载片系统、传送系统和制程系统三部分构成。性能指标要求：1、旋涂程序最多可存100组程序，每组100步，每个步骤可精确到0.1秒；2、转动速度：0-5,000rpm；3、旋涂加速度：0-10,000rpm/sec（空载）4、马达旋涂转速稳定性能误差 <±1rpm。