新型离子溅射镀膜机开发

离子溅射镀膜机是气体分子在离子源中，高压电离后形成正离子和电子，正离子在电场作用下加速，以高的动能轰击靶材，使得靶材原子能量增加并脱离表面形成溅射层，沉淀在玻璃基板上形成光学镀膜。目前离子溅射镀膜机靶材溅射形成的有效镀膜区域有限，而且膜厚均匀性不容易控制和镀膜表面质量差的缺陷。主要技术指标：真空系统：极限真空度 4.0×10-5Pa 抽至10Pa 所用时间≤ 10min 离子源：16CM三焦点射频溅射离子源 光学膜厚监控：波长范围：380-1650nm 波长精度：1nm 光源稳定性：〈0.1% 波长分辨率 0.2nm 波长准确度 0.2nm