采用多级磁场约束的弧源来提高弧斑放电设计

现状：
传统化学电镀会产生有毒的致癌物质以及大量废水，造成环境的污染，并且电镀表面比较疏松，膜层的硬度不够高，耐磨性不够，性能不稳定。

需解决问题：
用具有细长型靶材底柱紧凑结构的离子镀枪装置配合双层水冷传输法兰套，采用具有一定锥度的锥台形靶材，通过细长型靶材底柱周围靶座背面的内轴向磁场(Ⅰ级轴向磁场)发生装置与传输法兰套上的外轴向磁场(Ⅱ、Ⅲ级轴向磁场)发生装置的配合，形成与锥台形靶材锥面相交的约束轴向磁场及传输空间聚焦导引轴向磁场兼容可调的多级轴向复合磁场结构。既可以改善弧斑放电，控制弧斑运动，减少颗粒发射，又可以改善传输空间的磁场分布，提高等离子体的传输效率和密度等镀膜关键参数的双重效果。

达到的指标：
最终可提高公司市场占有率